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CMSD2000-纳米钛高剪切研磨分散机
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货物所在地: 上海上海市
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更新时间: 2020-08-20 09:43:36
期: 2020年8月20日--2021年8月20日
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产品简介

纳米钛研磨分散机,纳米钛高剪切研磨分散机立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。

详细介绍

纳米钛研磨分散机,纳米钛高剪切研磨分散机,管线式纳米钛研磨分散机,超细纳米钛研磨分散机,连续式纳米钛研磨分散机

安徽某企业与北京大学、北京科技大学、复旦大学的专家合作攻关,大胆采用钛酸锂为负极材料,以及增加压缩应变恒压阀等核心技术,历时4年研发出了安全、环保、长寿命的新一代纳米钛酸锂电池产品,无论在性能以及体积比上都大大超越了其他锂电池产品,避免了普通锂离子电池有高比能量、高比功率、高能量转换效率、长循环寿命等优点,但存在低温时难以放电和充电等问题。

纳米钛酸锂电池在零下30摄氏度到零上55摄氏度的情况下,充放电往返能量转化效率在86%~91%以上,性能十分优越。相较而言:普通锂离子电池充放电循环寿命在5000次左右,纳米钛酸锂电池循环寿命可达20000次以上,使用期限超过15年。目前,该公司试生产的电池已广泛应用于电动汽车、电动自行车、电动叉车、搬运车、巡逻车、观光车,将来还可用于对电池安全性要求较高的电动大巴、矿用工程车以及jun用和航天等领域。

纳米钛研磨分散机,纳米钛高剪切研磨分散机,管线式纳米钛研磨分散机,超细纳米钛研磨分散机,连续式纳米钛研磨分散机

上海依肯的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。研磨分散机为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。简单的说就是将IKN/依肯胶体磨进行进一步的改良,将单一的胶体磨磨头模块,改良成两级模块,加入了一级分散盘。可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择) IKN研磨分散机可以高速研磨,分散,乳化,均质等功能,设备转速可达14000rpm,是目前设备转速的4-5倍。

 

CMD2000研磨分散机有一定输送能力,对高固含量有一定粘稠度物料,CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子,进行物料的推动输送;所有与物料接触部位均为316L不锈钢,机座采用304不锈钢;特殊要求如:硬度较大物料,对铁杂质要求严苛的物料,管道有一定压力并且需不间断运转的工况,可选磨头喷涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计,可通冷却或者升温介质。

CMD2000系列研磨分散机的结构:研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

 

研磨分散机的特点:

1、 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

 

2、 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

3、 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

4、 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

5、 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

,管线式纳米钛研磨分散机,超细纳米钛研磨分散机,连续式纳米钛研磨分散机

设备核心参数:

设备等级:化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件: PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理:抛光、耐磨处理
进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器

 

CMD2000系列研磨分散机设备选型表
 

型号

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到大允许量的10%

研磨分散机的应用领域:

  1. 精细化工、颜料、染料、涂料、油漆、塑料、树脂、热熔胶、阻燃剂、胶黏剂、整理剂、表面活性剂、均染剂防粘剂、消泡剂、光亮剂、橡胶助剂、塑料辅剂、染料助剂、絮凝剂、混凝剂、表面活性剂溶剂、硅油乳化、树脂乳化、炭墨分散
  2. 石油化工、润滑油、重油混合、油包水、包油水、柴油乳化、改性沥青、乳化沥青、催化剂、蜡乳化
  3. 农药化肥 、化肥、农药乳化、农药助剂、农药中间体、药乳油、杀虫剂、除草剂、种衣剂、杀菌剂、植物激素、尿素、复合肥、乳油湿性粉剂
  4. 生物医药、细胞浆化、血清疫苗、蛋白质分散剂、药乳膏、抗生素、糖衣
  5. 日用化工、护肤霜、护肤膏、洗涤剂、防腐剂、美发用品、牙膏、日用香精
  6. 食品工业、食品添加剂、香精香料、果汁、果酱、冰淇淋、乳制品、巧克力、植脂末
  7. 涂料油墨、内外墙涂料、乳胶漆、纳米涂料、建筑胶、光固化涂料、油墨、墨水、碳黑、涂料助剂釉、膨润土
  8. 造纸工业、纸浆、胶黏剂、松香分散、碳酸钙、填料助剂、颜料混合、树脂乳化
  9. 环境保护、废水、污水处理、改质、回收利用
  10. 其它:造纸、陶瓷泥釉、除锈剂、滑石粉

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